เป้าซัพเตอร์โลหะ
-
![เป้าหมายการสปัตเตอร์คาร์บอน 4N ที่ปรับแต่งได้]()
เป้าหมายการสปัตเตอร์คาร์บอน 4N ที่ปรับแต่งได้เป้าหมายการสปัตเตอร์คาร์บอน 4N ที่มีความบริสุทธิ์สูง-ของเราสร้างขึ้นจากวัสดุคาร์บอนบริสุทธิ์ 99.99% ซึ่งมีระดับสิ่งเจือปนต่ำ และทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์ ฟิล์มบางที่ใช้แสง...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายสปัตเตอร์โบรอนแบบกำหนดเอง]()
เป้าหมายสปัตเตอร์โบรอนแบบกำหนดเองเรามีเป้าหมายโบรอนหนาแน่น-ที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบ เราสนับสนุนการผลิตแบบกำหนดเองตามแบบทางเทคนิค...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายทังสเตนกลม 3N5 ที่กำหนดเอง]()
เป้าหมายทังสเตนกลม 3N5 ที่กำหนดเองเรานำเสนอเป้าหมายทังสเตนทรงกลม{0}}แบบกำหนดเองที่มีความบริสุทธิ์ 3N5 (99.95%) ผลิตโดยใช้ผงโลหะวิทยา มีลักษณะโครงสร้างจุลภาคที่สม่ำเสมอ มีความหนาแน่นสูง และไม่มีรูพรุนและสิ่งเจือปน...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายสปัตเตอร์ Hf ความบริสุทธิ์สูงที่กำหนดเอง]()
เป้าหมายสปัตเตอร์ Hf ความบริสุทธิ์สูงที่กำหนดเองเรานำเสนอเป้าหมายสปัตเตอร์ฮาฟเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง-แบบกำหนดเองซึ่งมีความบริสุทธิ์เกิน 99.9% โดยมีความหนาแน่นสม่ำเสมอและโครงสร้างจุลภาคที่ละเอียด ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับชิปเซมิคอนดักเตอร์...เพิ่มเติม -
![ปรับแต่งก้านแฮฟเนียม 3N5]()
ปรับแต่งก้านแฮฟเนียม 3N5แท่งแฮฟเนียมความบริสุทธิ์สูง- 3N5 ความบริสุทธิ์ 99.95% คุณภาพเกรดนิวเคลียร์-! ทนทานต่ออุณหภูมิสูงเป็นพิเศษ-และการกัดกร่อนที่รุนแรง เป็นตัวเลือกแรกสำหรับเครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายดีบุก 3N ที่กำหนดเอง]()
เป้าหมายดีบุก 3N ที่กำหนดเองเป้าหมายการสปัตเตอร์ดีบุก 3N ที่มีความบริสุทธิ์สูง- + แผ่นหลังทองแดงแบบกำหนดเองเพิ่มประสิทธิภาพการสปัตเตอร์เป็นสองเท่า! การยึดเกาะแบบไร้รอยต่อป้องกันการหลุดออก...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายแฮฟเนียมสี่เหลี่ยม 3N5 ที่ปรับแต่งได้]()
เป้าหมายแฮฟเนียมสี่เหลี่ยม 3N5 ที่ปรับแต่งได้เป้าหมายแฮฟเนียมความบริสุทธิ์สูง 3N5- มีความบริสุทธิ์ 99.95% ขนาดสี่เหลี่ยมแบบกำหนดเองที่มีความแม่นยำระดับไมโครมิเตอร์! ตัวเลือกแรกสำหรับการเคลือบเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบออปติคัล...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายสปัตเตอร์แมกนีเซียม 4N Mg]()
เป้าหมายสปัตเตอร์แมกนีเซียม 4N Mgเป้าหมายสปัตเตอร์แมกนีเซียม 4N เป็นวัสดุสปัตเตอร์โลหะที่มีความบริสุทธิ์สูง- โดยมีความบริสุทธิ์มากกว่าหรือเท่ากับ 99.99% มีเม็ดละเอียดและองค์ประกอบสม่ำเสมอ ทำให้เหมาะสำหรับเซมิคอนดักเตอร์...เพิ่มเติม -
![99.95% Hf Hafnium Sputtering Target]()
99.95% Hf Hafnium Sputtering Target99.95% high-purity hafnium sputtering target, aerospace-grade Hf metal target, custom size, bonded copper backing plate, used for semiconductor thin films, optical coatings, military coatings,...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายท่อเซอร์โคเนียม]()
เป้าหมายท่อเซอร์โคเนียมเป้าหมายของท่อเซอร์โคเนียมนั้นเป็นท่อเซอร์โคเนียม-ที่มีผนังบาง -มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่ง-ทนทานต่อการกัดกร่อนและทนต่ออุณหภูมิสูง- ทำให้เกิดฟิล์มที่มีความหนาแน่นและสม่ำเสมอในระหว่างการสปัตเตอร์...เพิ่มเติม -
![เป้าหมายการสปัตเตอร์เบริลเลียม]()
เป้าหมายการสปัตเตอร์เบริลเลียมเบริลเลียมเป็นโลหะสีเทาเหล็กซึ่งเปราะบางมากที่อุณหภูมิห้อง และคุณสมบัติทางเคมีค่อนข้างคล้ายกับอะลูมิเนียมเพิ่มเติม -
![เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม (Cr)]()
เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม (Cr)โครเมียมสปัตเตอร์เป้าหมายมีคุณสมบัติเช่นเดียวกับโครเมียมโลหะ (Cr) โครเมียมเป็นธาตุเคมีที่มีสัญลักษณ์ Cr และเลขอะตอม 24 เป็นโลหะทรานซิชันสีเทาเหล็ก มันวาว แข็งและเปราะ...เพิ่มเติม
เราเป็นซัพพลายเออร์เป้าตรวจจับโลหะมืออาชีพในประเทศจีน ซึ่งมีความเชี่ยวชาญในการให้บริการที่กำหนดเองคุณภาพสูง เรายินดีต้อนรับคุณอย่างอบอุ่นในการซื้อเป้าตรวจจับโลหะราคาลดพิเศษในสต็อกที่นี่ และรับตัวอย่างฟรีจากโรงงานของเรา หากต้องการคำปรึกษาเรื่องราคา โปรดติดต่อเรา