คำอธิบายสินค้า
เป้าโลหะผสมอลูมิเนียม-โครเมียมของเราใช้กระบวนการอัดไอโซสแตติกแบบร้อนขั้นสูง ผลิตภัณฑ์ได้แก่ เป้าสี่เหลี่ยม เป้าโค้ง และเป้าท่อขึ้นรูปเป็นชิ้นเดียวที่มีอัตราส่วนกว้างยาวสูง เป็นต้น โดยมีอัตราส่วนองค์ประกอบที่หลากหลาย ความบริสุทธิ์และความหนาแน่นสูง ข้อดีคือมีเม็ดคริสตัลขนาดเล็กและสม่ำเสมอ และมีอายุการใช้งานยาวนาน สามารถปรับได้อย่างอิสระตามความต้องการของลูกค้า และความหนาแน่นจริงอยู่ที่ประมาณ 99%
ต่อไปนี้เป็นกระบวนการผลิตของเป้าหมายอลูมิเนียมโครเมียม
วัตถุดิบ - การผสมผง - การหุ้ม - การผงโลหะผสม - การอัดหุ้ม - การอัดไอโซสแตติกร้อน - การตรวจสอบโลหะวิทยา - การตัดลวด - การกลึง - การตรวจสอบขนาด - การทำความสะอาด-บรรจุภัณฑ์
การตรวจสอบโลหะวิทยาของเป้าหมายการสปัตเตอร์ของโลหะผสมอะลูมิเนียม-โครเมียม
ผ่านการตีซ้ำ การรีด และการอบด้วยความร้อน เราสามารถปรับโครงสร้างจุลภาคของวัสดุเป้าหมายได้อย่างเหมาะสมเพื่อให้ได้ผลลัพธ์ที่คุณต้องการ หากขนาดเกรนของวัสดุเป้าหมายการสปัตเตอร์สม่ำเสมอ ผู้ใช้จะได้รับอัตราการสปัตเตอร์ที่ดีและการเคลือบพื้นสม่ำเสมอ ภาพด้านล่างเป็นภาพการตรวจสอบโลหะวิทยาด้วยกล้องจุลทรรศน์ของเป้าหมายการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมโครเมียม (AlCr 70/30at%) โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย<100μm.
|
รายการ |
เป้าการสปัตเตอร์โลหะอลูมิเนียมโครเมียม (เป้า AlCr) AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt% เป็นต้น |
|
วัสดุ |
วัสดุโลหะอลูมิเนียม |
|
ความบริสุทธิ์ |
99.9%-99.95%, 3N,3N5 |
|
ขนาด |
10x10x10 มม.,1-10 มม., D3x3 มม., 1 นิ้ว, 2 นิ้ว, 3 นิ้ว หรือตามคำขอ |
|
สี |
สีเมทัลลิก |
|
รูปร่าง |
เม็ดพลาสติก, เม็ดเล็ก, ระนาบ/กลม/แผ่น/หมุน/แท่ง ตามคำขอ |
|
พื้นผิว |
พื้นผิวขัดเงา |
|
ความหนาแน่นของ Cr |
7.19ก/ซม3 |
|
จุดหลอมเหลวของโครเมียม |
1890 องศา |
|
แอปพลิเคชัน |
การเคลือบฟิล์ม PVD การเคลือบฟิล์มบางออปติคัล การใช้งานในอุตสาหกรรม กระบวนการ พื้นที่เซมิโดดัคเตอร์ การทดลอง ฯลฯ |
องค์ประกอบที่มีจำหน่าย
เป้าหมายการสปัตเตอร์ AlCr70/30at%
เป้าหมายการสปัตเตอร์ AlCr50/50at%
เป้าหมายการสปัตเตอร์ AlCr60/40at%
เป้าหมายการสปัตเตอร์ AlCr30/70at%
ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าการสปัตเตอร์อลูมิเนียมโครเมียม (ALCR) ซัพพลายเออร์เป้าการสปัตเตอร์อลูมิเนียมโครเมียม (ALCR) ของจีน โรงงาน
