เป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

คำอธิบายของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

เป้าหมายการสปัตเตอร์โบรอนคาร์ไบด์ (B4C) เป็นเป้าหมายเซรามิกประสิทธิภาพสูง-ที่ใช้เป็นหลักในกระบวนการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) -โดยเฉพาะการสปัตเตอร์แมกนีตรอน- เพื่อฝากฟิล์มบางของโบรอนคาร์ไบด์ลงบนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์ โดดเด่นด้วยคุณสมบัติทางเคมีกายภาพที่โดดเด่น ฟิล์มบางเหล่านี้พบการใช้งานที่สำคัญในภาคส่วนเทคโนโลยีขั้นสูงจำนวนมาก- โดยทั่วไปเป้าหมายโบรอนคาร์ไบด์จะผลิตในรูปแบบจานกลม โดยมีเส้นผ่านศูนย์กลางทั่วไป ได้แก่ 50.8 มม. และ 76.2 มม. และมีความหนาให้เลือกตั้งแต่ 3 มม. ถึง 6 มม. ระดับความบริสุทธิ์ครอบคลุมสเปกตรัมตั้งแต่ 99% ไปจนถึงเกรด 4N ที่มีความบริสุทธิ์สูง- ซึ่งตอบสนองความต้องการที่หลากหลายของทั้งการวิจัยทางวิทยาศาสตร์และการใช้งานทางอุตสาหกรรม นอกจากนี้ยังมีบริการต่างๆ เช่น การติดแผ่นรองพื้นทองแดง เพื่อความสะดวกในการติดตั้งและใช้งาน

คุณสมบัติของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

ความแข็งพิเศษ: ความแข็งของมันเป็นอันดับสองรองจากเพชรและคิวบิกโบรอนไนไตรด์ ทำให้ได้รับฉายาว่า "เพชรดำ"
ทนต่ออุณหภูมิสูง-ดีเยี่ยม: ด้วยจุดหลอมเหลวถึงประมาณ 2350 องศา จึงรักษาประสิทธิภาพการทำงานที่เสถียรในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูง-
ความเสถียรทางเคมีที่ดี: เป็นสารเคมีเฉื่อยกับกรดส่วนใหญ่ แต่ละลายในด่างหลอมเหลว
ส่วนกากบาทการดูดซับนิวตรอนความหนาแน่นต่ำและสูง-: ด้วยความหนาแน่นประมาณ 2.52 g/cm³ ทำให้ดูดซับนิวตรอนได้อย่างมีประสิทธิภาพโดยไม่สร้างไอโซโทปกัมมันตภาพรังสี ทำให้มีความสำคัญอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมนิวเคลียร์
ข้อกำหนดความบริสุทธิ์สูง: สำหรับใช้ในการเตรียมวัสดุเป้าหมายที่มีประสิทธิภาพสูง- โดยทั่วไปผงโบรอนคาร์ไบด์จะต้องมีระดับความบริสุทธิ์เกิน 99% การควบคุมสิ่งเจือปนอย่างเข้มงวด-เช่น ออกซิเจน เหล็ก และซิลิคอน- ถือเป็นสิ่งสำคัญในการรับรองประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้าย

การประยุกต์ใช้เป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

การเคลือบต้านทานการสึกหรอและการป้องกัน: ให้การเคลือบที่ทนทาน-แข็งเป็นพิเศษ-ต่อการสึกหรอสำหรับส่วนประกอบและเครื่องมือทางกล ซึ่งช่วยยืดอายุการใช้งานได้อย่างมาก ยังพบการใช้งานในด้านการป้องกันเกราะด้วย
การบินและอวกาศ: ใช้สำหรับการเคลือบผิวบนส่วนประกอบที่ต้องทนต่ออุณหภูมิที่รุนแรงและสภาพแวดล้อมที่รุนแรง
การตรวจจับพลังงานนิวเคลียร์และนิวตรอน: ทำหน้าที่เป็นวัสดุดูดซับนิวตรอนในอุดมคติ-สำหรับใช้ในเครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์ ฟิล์มบางโบรอนคาร์ไบด์ในพื้นที่สูง-ประสิทธิภาพสูง-ถูกนำไปใช้ในเครื่องตรวจจับนิวตรอนได้สำเร็จ ส่งผลให้เทคโนโลยีและอุปกรณ์หลักมีการแปลเป็นภาษาท้องถิ่นได้
สารกึ่งตัวนำและฟิล์มบางเชิงหน้าที่: การฝากฟิล์มบางเชิงฟังก์ชันไว้บนพื้นผิวต่างๆ รวมถึงแก้ว โลหะ และพลาสติก

ข้อมูลจำเพาะของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

การควบคุมคุณภาพและการทดสอบเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

คำถามที่พบบ่อยสำหรับเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

คุณเป็น โรงงานหรือ aผู้ผลิต?
ตอบ: ใช่ เราเป็นโรงงาน B4C Sputtering Target แต่โดยทั่วไปแล้วเราใช้บริษัทการค้าของเราในการจัดการธุรกิจในต่างประเทศ จะสะดวกกว่าในการรับเงินและจัดเตรียมการจัดส่ง

วิธีการจัดส่งคืออะไร?
ตอบ: โดยทั่วไปเราจะส่ง B4C Sputtering Target โดย UPS, DHL หรือ FedEx นอกจากนี้เรายังสามารถส่งทางทะเลไปยังท่าเรือหรือทางอากาศไปยังสนามบินที่ใกล้ที่สุด

เหตุใด B4C Sputtering Target ของคุณจึงคุ้มค่า-มาก
ตอบ: เราตัดคนกลางออกไปในท้ายที่สุด-เพื่อ-ยุติกระบวนการผลิต และเราได้รับวัตถุดิบโดยตรงจากแหล่งที่มา

คุณทำการตรวจสอบคุณภาพเฉพาะจุดของสินค้า?
ตอบ: การตรวจสอบเต็ม 100% อย่างแน่นอน เป้าหมายสปัตเตอร์ B4C ที่ไม่เข้าเกณฑ์ทั้งหมดจะถูกละทิ้ง

คุณแน่ใจได้อย่างไรว่าเวลารอคอยของคุณ?
ตอบ: ตั้งแต่การเตรียมวัสดุไปจนถึงการตัดเฉือนและสุดท้ายคือการตรวจสอบอย่างเต็มรูปแบบ ทุกขั้นตอนการผลิตได้รับการตรวจสอบและควบคุมอย่างเข้มงวดเพื่อให้คุณได้รับเวลาจัดส่งที่แม่นยำ

ขั้นต่ำของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C คืออะไร?
ตอบ: ขึ้นอยู่กับปริมาณของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C โดยทั่วไปไม่มีขีดจำกัดขั้นต่ำ

วิธีการชำระเงินผลิตภัณฑ์?
ตอบ: สามารถโอนเงินผ่านธนาคาร (T/T) ได้

เวลาในการจัดส่งคืออะไร?
ตอบ: ประมาณ 7-20 วัน ซึ่งขึ้นอยู่กับปริมาณและการผลิตของ B4C Sputtering Target

มันเป็นแพ็คเกจแบบไหน?
ตอบ: โดยทั่วไป เราใช้กล่องกระดาษแข็งหรือกล่องไม้อัดที่มีวัสดุป้องกันอยู่ภายในเพื่อความปลอดภัยของเป้าหมายสปัตเตอร์ B4C

เวลานำคืออะไร?​​?
ตอบ: ตั้งแต่สั่งสินค้าจนถึงรับสินค้าจะใช้เวลาประมาณ 10-25 วัน

ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าหมายสปัตเตอร์ b4c, ซัพพลายเออร์เป้าหมายสปัตเตอร์ b4c จีน, โรงงาน