เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ (MgO)

แมกนีเซียมออกไซด์ในเป้าหมายการสปัตเตอร์ส่วนใหญ่มักปรากฏในรูปแบบฟิล์มความเร็วสูง การใช้งานในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และโฟโตวอลตาอิค กระบวนการเตรียมเฉพาะ และการใช้งานการเคลือบแบบครอบคลุม การใช้งานเหล่านี้ได้รับประโยชน์จากคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีของแมกนีเซียมออกไซด์เอง

การประยุกต์ใช้แมกนีเซียมออกไซด์ (MgO) ในเป้าหมายการสปัตเตอร์สะท้อนให้เห็นในด้านต่อไปนี้เป็นหลัก:

การสร้างฟิล์มความเร็วสูง: เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ใช้ MgO และสารตัวนำเป็นองค์ประกอบหลัก องค์ประกอบพิเศษนี้ทำให้สามารถจัดวางฟิล์ม MgO ได้เมื่อสร้างด้วย MgO โดยการสปัตเตอร์ DC จึงทำให้สามารถสร้างฟิล์มความเร็วสูงได้เมื่อสร้างฟิล์ม MgO

การประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และโฟโตวอลตาอิค: ด้วยการพัฒนาของอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์และโฟโตวอลตาอิค เป้าหมายแมกนีเซียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงได้รับการใช้กันอย่างแพร่หลายในผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์และการเคลือบโฟโตวอลตาอิค ความบริสุทธิ์สูงของเป้าหมายดังกล่าวช่วยลดการรบกวนที่เกิดจากสิ่งเจือปน และปรับปรุงเสถียรภาพของผลิตภัณฑ์และอายุการใช้งาน

กระบวนการเตรียม: ในกระบวนการเตรียมเป้าหมายเซรามิกออกไซด์ประสิทธิภาพสูง แมกนีเซียมออกไซด์เป็นหนึ่งในเป้าหมายการสปัตเตอร์ทั่วไป สารละลายออกไซด์จะได้รับจากการบดด้วยลูกกลิ้งสูญญากาศ จากนั้นจึงขึ้นรูปสารละลายและกระบวนการเผาผนึก ซึ่งสามารถผลิตเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ที่มีความหนาแน่นสูงและขนาดใหญ่ได้

การประยุกต์ใช้การเคลือบ: การเคลือบฟิล์มบางแบบสปัตเตอร์ของเป้าหมายสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ได้รับการใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น แผงคริสตัลเหลว หน้าจอสัมผัส เซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง และไดโอดเปล่งแสง การประยุกต์ใช้การเคลือบเหล่านี้ได้รับประโยชน์จากจุดหลอมเหลวที่สูง ฉนวนที่ยอดเยี่ยม ทนความร้อน ต้านอนุมูลอิสระ และคุณสมบัติการกัดกร่อนของแมกนีเซียมออกไซด์

ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ (mgo) ซัพพลายเออร์เป้าสปัตเตอร์แมกนีเซียมออกไซด์ (mgo) ของจีน โรงงาน