เป้าหมายการสปัตเตอร์ไนโอเบียมออกไซด์ (Nb2O5)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ไนโอเบียมออกไซด์ (Nb2O5)

เป้าหมายการสปัตเตอร์ไนโอเบียมออกไซด์ (Nb2O5)

เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ของเราผลิตขึ้นโดยใช้กระบวนการอัดร้อนสูญญากาศขั้นสูง การอัดไอโซสแตติกร้อน การอัดเย็น การเผาผนึก และกระบวนการพ่นความร้อน ผลิตภัณฑ์ของเราได้แก่ เป้าหมายสี่เหลี่ยมผืนผ้า เป้าหมายส่วนโค้ง และเป้าหมายท่อ
ส่งคำถาม
คำอธิบายสินค้า

 

เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ของเราผลิตขึ้นโดยใช้กระบวนการอัดร้อนสูญญากาศขั้นสูง การอัดไอโซสแตติกร้อน การอัดเย็น การเผาผนึก และกระบวนการพ่นความร้อน ผลิตภัณฑ์ของเราได้แก่ เป้าหมายสี่เหลี่ยมผืนผ้า เป้าหมายส่วนโค้ง และเป้าหมายท่อ

 

ความบริสุทธิ์: 99.99%;

รูปทรง : ทรงกระบอก, แบน;

ขนาดของเป้าแบนที่ผ่านการอัดเย็นและเผาผนึก: ช่วงความยาวและความกว้าง 10-600 มม. (สามารถปรับแต่งได้ตามขนาดของลูกค้า)

ขนาดเป้าหมายท่อ: เส้นผ่านศูนย์กลางภายนอก 50-160 มม. ความหนา 4-17.5 มม. ความยาว 200-4000 มม. (ปรับแต่งได้ตามขนาดของลูกค้า)

Density: 4.3 g/cm3~4.5g/cm3, relative density>99%;

ความต้านทาน: น้อยกว่า 0.1 โอห์ม.ซม. (20 องศา);

กระบวนการ: เป้าหมายหมุนไนโอเบียมออกไซด์ใช้วิธีการพ่นพลาสมา เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์แบบแบนใช้การเผาผนึกแบบกดเย็น การกดร้อนสูญญากาศ การกดแบบไอโซสแตติกร้อน และสามารถจัดทำกระบวนการอื่นๆ สามกระบวนการได้

 

แอปพลิเคชัน

 

สูตรเคมี

เอ็นบี2โอ5

สี/รูปลักษณ์

สีขาว, ผลึกแข็ง, สีเทา-ดำ

รูปทรง

ดิสก์ แผ่น เป้าหมายคอลัมน์ เป้าหมายขั้นบันได หรือสั่งทำพิเศษ

ขนาด

สูงสุดถึง 450 x 300 x 12 มม.

ความบริสุทธิ์ (%)

99.95

จุดหลอมเหลว (องศา)

1,485

 

การใช้งาน: วัสดุเป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ส่วนใหญ่ใช้สำหรับพลังงานแสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง การเคลือบกระจกออปติคอล ฟิล์ม AR หน้าจอสัมผัส ฟิล์มกระจก LOW-E (กระจกรังสีต่ำ) เซมิคอนดักเตอร์ หน้าจอสัมผัส จอภาพแบบแผงแบน การเคลือบตกแต่งเครื่องมือ ฯลฯ

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าสปัตเตอร์ไนโอเบียมออกไซด์ (nb2o5) ซัพพลายเออร์เป้าสปัตเตอร์ไนโอเบียมออกไซด์ (nb2o5) ของจีน โรงงาน