วัสดุเคลือบ PVD

• เป้าหมายการสปัตเตอร์ลิเธียมแมงกานีส (LiMn2O4)

  วัสดุเป้าหมายการสปัตเตอร์ลิเธียมแมงกานีสเป็นวัสดุสปัตเตอร์สีดำซึ่งประกอบด้วยธาตุ Li, Mn และ O เป็นวัสดุอิเล็กโทรไลต์โซลิดเซรามิกที่มีสภาพนำไฟฟ้าสำหรับแบตเตอรี่ลิเธียมไอออน

  เพิ่มเติม
• เป้าหมายการสปัตเตอร์ลิเธียมโคบอลต์เตต (LiCoO2)

  การสปัตเตอร์เป็นเทคโนโลยีที่ได้รับการพิสูจน์แล้วว่าสามารถเคลือบฟิล์มบางๆ จากวัสดุที่มีความหลากหลายลงบนพื้นผิวที่มีรูปร่างและขนาดต่างกันได้

  เพิ่มเติม
• เป้าหมายการสปัตเตอร์ของอิตเทรียมออกไซด์ (Y2O3)

  ความบริสุทธิ์: 99.99%;
  วิธีการผลิต : การเผาผนึกแบบกดร้อน;
  ขนาดที่มี:
  

  เพิ่มเติม
• เป้าหมายการสปัตเตอร์ของเซอร์โคเนียมออกไซด์ (ZrO2)

  เราผลิตและจัดหาอุปกรณ์เซรามิกสปัตเตอร์และส่วนประกอบต่างๆ ครบวงจร รวมถึงอุปกรณ์ออกไซด์สปัตเตอร์ อุปกรณ์คาร์ไบด์สปัตเตอร์ อุปกรณ์ฟลูออไรด์สปัตเตอร์ อุปกรณ์ซัลไฟด์ และอื่นๆ อีกมากมาย...

  เพิ่มเติม
• เป้าหมายการสปัตเตอร์ลิเธียมนิโอเบต (LiNbO3)

  โรงงานของเราสามารถผลิตและจัดหาเป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกและเป้าหมายผสมได้ครบวงจร รวมถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์คาร์ไบด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์ฟลูออไรด์...

  เพิ่มเติม
• เป้าหมายการสปัตเตอร์สังกะสีออกไซด์/อะลูมิเนียมออกไซด์ (AZ...

  โรงงานของเราผลิตเป้าหมายการสปัตเตอร์สังกะสีออกไซด์ (AZO)...

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์ทังสเตนไททาเนียม (WTi)

  เป้าหมายการสปัตเตอร์ทังสเตนไททาเนียมผลิตขึ้นด้วยเทคโนโลยีผงโลหะ ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์แบบเซมิคอนดักเตอร์และแบบฟิล์มบาง

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมนีโอไดเมียม (AlNd)

  โลหะผสมอลูมิเนียมนีโอไดเมียมเป็นวัสดุเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนที่ใช้กันทั่วไป อลูมิเนียมมีจุดหลอมเหลว 66 องศา ความหนาแน่น 2.7 และการนำความร้อน 0.031 องศา ในขณะที่นีโอไดเมียมมีจุดหลอมเหลว 1...

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์อลูมิเนียมและทองแดง (AlCu)

  เป้าการสปัตเตอร์อลูมิเนียมและทองแดงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับอุตสาหกรรมและการใช้งานหลายประเภท เนื่องจากมีความแข็งสูง ทนต่อแรงดึง และมีน้ำหนักเบา โดยปกติจะมีปริมาณทองแดง 1-3%...

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมสแกนเดียม (AlSc)

  สแกนเดียมมีผลดีในการเสริมความแข็งแรงแบบกระจายตัวบนอลูมิเนียม เป็นโครงสร้างที่ไม่ตกผลึกซ้ำที่เสถียรระหว่างการขึ้นรูปร้อนหรือการอบอ่อน โลหะผสมบางชนิดเป็นแผ่นรีดเย็นซึ่งมีการเสียรูปมาก...

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมซิลิกอน (AlSi)

  เป้าหมายจะถูกเตรียมโดยการผสมผงอะลูมิเนียมและซิลิกอน จากนั้นจึงอัดให้แน่นจนเต็มความหนาแน่น จากนั้นวัสดุที่อัดแน่นแล้วจะถูกเผาเป็นผงตามต้องการ แล้วจึงขึ้นรูปเป็นรูปร่างเป้าหมายที่ต้องการ

  เพิ่มเติม
• เป้าการสปัตเตอร์อะลูมิเนียมโครเมียม (AlCr)

  เป้าหมายโลหะผสมอลูมิเนียม-โครเมียมของเราใช้กระบวนการอัดไอโซสแตติกร้อนขั้นสูง ผลิตภัณฑ์ได้แก่ เป้าหมายรูปสี่เหลี่ยมผืนผ้า เป้าหมายส่วนโค้ง และเป้าหมายท่อที่ขึ้นรูปเป็นชิ้นเดียวกันในอัตราส่วนภาพสูง...

  เพิ่มเติม